供應日本光弛2350鍍膜機

1.標配參數：單槍、 離子源、 晶控、23公分的射頻源、 熱阻蒸、 頂部側部加熱、 兩個擴散泵、一個螺絲泵、一個機械泵
2.用途：此真空鍍膜機是鍍制防污膜（as膜）及防反射膜+防污膜（af+as膜）型光學鍍膜機，應用于鍍膜機等所配的觸摸屏。真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。為了提高鍍層厚度的均勻性，運動模式的膜均勻性好，鍍層的臺階覆蓋性能好，承載能力大，可充分利用有效空間的真空鍍膜室，是一個運動的常用模式。排氣系統一般由機械泵，擴散泵，管道和閥門組成。為了提高泵的流量，可以添加增壓器之間的機械泵和擴散泵。因此，不僅在較短的時間內低壓力以保證快速的工作循環的排氣系統，還需要確保氣體的蒸發源和蒸鍍工件表面產生快速的去除。蒸發系統包括電氣設備和加熱蒸發源蒸發源。電氣設備包括測量真空薄膜的厚度和控制
3.特征：磁密封驅動的基板旋轉式可得到穩定和均勻的膜厚分布
4.配備：配備rf離子源以提高膜的耐摩擦性；用于防污膜（as 膜）批量生產；防污膜（as 膜）批量生產。
5.性能：達到壓強7.0e-5pa以下
6.配置參數：
真空室 ф2350mm×h 1400mm
基板架 ф2200 mm
基板架轉速 20rpm
晶振式膜厚計 6點式⽔晶傳感器
蒸發源 電⼦槍1臺，熱阻蒸
達到壓強 7.0e-5pa 以下
排強時間 15分以下（壓強〜2.0×10-3 pa）
7.工作條件：
設備尺寸 約6300mm (w)×9000mm (d) ×4000mm (h)
電源 3相,200v,50/60hz,約80kva
水流量 220升/分以上
空氣壓力 0.5-0.7mpa
重量 約12000kg