伯東 KRI 考夫曼霍爾離子源 eH 3000

因產(chǎn)品配置不同，價(jià)格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)。
無(wú)論是何種膜系結(jié)構(gòu), 玻璃基片表面的清潔程度和表面狀態(tài)將直接影響所鍍膜層的質(zhì)量, 如薄膜的附著力/ 粗糙度以及薄膜的物理性能與機(jī)械強(qiáng)度.
但在放置和傳輸過(guò)程中會(huì)對(duì)玻璃基片表面難以避免地出現(xiàn)不明污染物, 失去 "新鮮表面" 形成鈍化層, 甚至可視痕跡. 對(duì)于低輻射玻璃而言, 在瑕疵處生長(zhǎng)的銀膜會(huì)在后續(xù)鋼化及熱彎過(guò)程中形成團(tuán)聚, 導(dǎo)致透光性能與低輻射性能嚴(yán)重惡化, 鍍膜產(chǎn)品報(bào)廢,降低成品率.
因此, 國(guó)內(nèi)某玻璃制造商采用伯東 在玻璃基片傳輸后/ 鍍前進(jìn)行在線基片表面處理工序.
gridless eh 3000 技術(shù)參數(shù):
型號(hào)
cathode/neutralizer
hc
電壓
50-250v
電流
20a
散射角度
>45
可充氣體
ar, o2, n2, h2, organic precursors, others
氣體流量
5-100sccm
高度
6.0“
直徑
9.7“
水冷
可選
f = filament; hc = hollow cathode; xo2 = optimized for o2 current
該制造商采用 krigridless eh 3000離子源解離 ar 氣體,轟擊玻璃表面,對(duì)玻璃基片表面進(jìn)行清洗和刻蝕.
理由：
設(shè)備穩(wěn)定,抗污染能力強(qiáng),可以進(jìn)行基片表面清洗與輔助沉積, krigridless eh 3000 對(duì)玻璃基片表面有效去除二次污染/ 增加基片表面能/ 控制基片表面粗糙度.
運(yùn)行結(jié)果:
krigridless eh 3000能有效去除二次污染, 對(duì)玻璃基片有效清洗清洗和刻蝕, 獲得更清潔/ 平滑的玻璃基片表面 提高了所鍍膜層的質(zhì)量,提高薄膜的附著力, 改善薄膜粗糙度以及薄膜的物理性能與機(jī)械強(qiáng)度 降低了鍍膜產(chǎn)品報(bào)廢,提高了成品率 若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式:
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