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鍍膜機是一種用于在物體表面覆蓋一層薄膜的設備,‌廣泛應用于物理學、‌化學、‌機械工程等多個領域。‌鍍膜機通過在真空條件下,‌采用等離子技術,‌制備純度高的金屬膜、‌化合物膜等,‌適用于半導體、‌顯示技術、‌光伏產業、‌工具鍍膜、‌裝飾鍍膜、‌功能鍍膜等多種應用場景。‌鍍膜機的主要組成部分包括真空腔室、‌蒸發源、‌基片臺、‌真空泵系統等,‌通過控制蒸發源的溫度和基片的位置,‌可以在基片上形成所需的薄膜。‌
鍍膜機的工作原理主要涉及兩種技術:‌蒸發鍍膜和濺射鍍膜。‌蒸發鍍膜是通過加熱靶材使其表面組分以原子團或離子形式被蒸發出來,‌并沉積在基片表面形成薄膜。‌濺射鍍膜則是利用電子或高能激光轟擊靶材,‌使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來,‌并最終沉積在基片表面形成薄膜。‌這兩種技術都能在基片上形成均勻、‌致密的薄膜,‌具有優異的附著力和良好的光學、‌電學性能。‌

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